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光學(xué)微電子凈化工程之定義為將一定空間范圍內之空氣中的微塵粒子、有害空氣、細菌等之污染物排除，并將室內之溫濕度、潔凈度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音震動(dòng)及照明、靜電控制在某一需求范圍內，而所給于特別設計之密閉空間。

光學(xué)微電子凈化工程亦名無(wú)塵室或清凈室，目前已是半導體、精密制造、液晶制造、光學(xué)制造、線(xiàn)路板制造和生物化學(xué)、醫藥、食品制造等行業(yè)不可或缺的重要設施。近幾年來(lái)，由于技術(shù)之創(chuàng )新發(fā)展，對于產(chǎn)品的高精密度化、細小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為各國在科技發(fā)展上極為重視的項目。

光學(xué)微電子凈化工程一般包括：

1、 潔凈生產(chǎn)區

2、 潔凈輔助間（包括人員凈化用房、物料凈化用室和部分生活用室等）

3、 管理區（包括辦公、值班、管理和休息等）

4、 設備區（包括凈化空調系統應用、電氣用房、高純水和高純氣用房、冷熱設備用房）

光學(xué)微電子凈化工程凈化原理

氣流→初效凈化→空調→中效凈化→風(fēng)機送風(fēng)→管道→高效凈化風(fēng)口→吹入房間→帶走塵埃細菌等顆粒 → 回風(fēng)百葉窗→初效凈化 重復以上過(guò)程，即可達到凈化目的。

光學(xué)微電子凈化工程凈化參數

換氣次數：100000級≥15次；10000級≥20次；1000≥30次。壓差：主車(chē)間對相鄰房間≥5Pa平均風(fēng)速：10級、100級0.3－0.5m/s；溫度 冬季＞16℃；夏季 ＜26℃；波動(dòng)±2℃。溫度45－65％；GMP粉劑車(chē)間濕度在50％左右為宜；電子車(chē)間濕度略高以免產(chǎn)生靜電。噪聲≤65dB（A）；新風(fēng)補充量是總送風(fēng)量的10％－30％；照度300LX。

光學(xué)微電子凈化工程結構材料

1. 凈化廠(chǎng)房墻、頂板材一般多采用50mm厚的夾芯彩鋼板制造，其特點(diǎn)為美觀(guān)、剛性強。圓弧墻角、門(mén)、窗框等一般采用專(zhuān)用氧化鋁型材制造。

2.地面可采用環(huán)氧自流坪地坪或高級耐磨塑料地板，有防靜電要求的，可選用防靜電型。

3.送回風(fēng)管道用熱渡鋅板制成，貼凈化保溫效果好的阻燃型PF發(fā)泡塑膠板。

4.高效送風(fēng)口用不銹鋼框架，美觀(guān)清潔，沖孔網(wǎng)板用烤漆鋁板，不生銹不粘塵，宜清潔。

光學(xué)微電子凈化工程解決方案:

凈化工程的設計過(guò)程中，應加強對光學(xué)微電子行業(yè)凈化工程設計方案分析了解,根據該工程是新建工程或者是舊廠(chǎng)房改造工程，并結合其具體的生產(chǎn)工藝、生產(chǎn)流程等要求確定其需要的潔凈度、溫濕度。再根據該工程的具體情況，同時(shí)還要考慮到生產(chǎn)廠(chǎng)家的經(jīng)濟承受能力，綜合各種因素來(lái)確定采用何種凈化方案，這樣才可設計出一個(gè)能滿(mǎn)足甲方生產(chǎn)使用要求、工程造價(jià)合理、經(jīng)濟節能實(shí)用的方案。